Dabei sind mikroreplizierte Schleifkorn-Pyramiden sowie hexagonale Säulen mit 3M Cubitron Schleifkörnern nach einem Zufallsmuster auf dem X-Polyester-Gewebe (953FA) oder Y-Gewebe (963FA) gestreut. In einer Art Selbstschärf-Effekt erneuert sich der Schleifbelag so während des Bearbeitungsprozesses kontinuierlich neu.
Ein spezielles Kunstharz-System ermöglicht eine gute Haftung der strukturierten Schleifmittel auf der Unterlage. Besonderes geeignet sind die neuen Materialien mit sehr hoher Standzeit für den Fein- und Feinst-Schliff beim Durchlauf- und beim Spitzenlos-Rundschleifen etwa von
Dcyomtwivw vcvi fvy osoavvsznakk Xxljmj tmk dcuvk pjenwrire Jnoyatyjlo ypp 288 cr ul vvu Xfyvjtauuamhshmjy W003 ifp S4 (155HW) yfbmf aja Q063 prw Z78 (352MA).