Das System erlaubt erstmalig die kontinuierliche Überwachung von Oberflächen-Belastungen durch große Partikel. Es eröffnet Analysemöglichkeiten in Reinräumen jenseits der ISO Klasse 5, in denen kontinuierliche, extraktive Partikel - Monitoringsysteme prinzipbedingt keine Anwendungsmöglichkeiten haben.
APMON ist ein Analyse-System speziell zum kontinuierlichen Monitoring großer Partikel (>20 Mikrometer). Dieser Einsatzzweck wird ermöglicht, indem das traditionelle Verfahren der Sedimentationsplatten-Mikroskopie in Richtung eines vollautomatischen und kontinuierlichen Analysators weiterentwickelt wurde. Konkret erfasst ein laseroptisches Verfahren die Sedimentation großer Partikel auf ein Array von Testoberflächen. Änderungen in der Partikel-Belegungszahl werden registriert und am Ende eines bestimmten Zeittaktes (ab 5 Minuten aufwärts) als Partikelanzahl und Partikelverteilung ausgewiesen.
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APMON ist ein Analyse-System speziell zum kontinuierlichen Monitoring großer Partikel (>20 Mikrometer). Dieser Einsatzzweck wird ermöglicht, indem das traditionelle Verfahren der Sedimentationsplatten-Mikroskopie in Richtung eines vollautomatischen und kontinuierlichen Analysators weiterentwickelt wurde. Konkret erfasst ein laseroptisches Verfahren die Sedimentation großer Partikel auf ein Array von Testoberflächen. Änderungen in der Partikel-Belegungszahl werden registriert und am Ende eines bestimmten Zeittaktes (ab 5 Minuten aufwärts) als Partikelanzahl und Partikelverteilung ausgewiesen.
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