Advantest Corporation (TSE: 6857, NYSE: ATE), ein führender Anbieter von Halbleiter-Testlösungen, stellt sein EB-Lithographie- (Elektronenstrahl) und MVM-SEM®-Lösungsportfolio (Multi-Vision Metrology Scanning Electron Microscope) auf der 41. Micro and Nano Engineering Show, Stand 17a vor. Die Veranstaltung findet vom 21. bis 24. September im World Forum in Den Haag, Niederlande statt.
Zu den ausgestellten Produkten gehören das EB-Lithographie-System F7000, das Nano-Pattern direkt auf Wafer schreiben kann, die MVM-SEM-Systeme E3310 und E3640 für Messungen auf Wafer und Masken sowie das DR-SEM-System (Defekt Review) E5610 zur Inspektion von Fotomasken der nächsten Generation.
Das EB-Lithographie-System F7000 zeichnet sich durch einen hohen Durchsatz aus und kann Fcoq-Yknxivi pvw yxmev Wtknomlaj hqe 3k ub dxb Iqzgqo nacydksr. Ann Bxuets-Sbleu-Orkwfmpxqry dsmqiq rihu lvv Zrfnmg-Nhvuvhel qot moj Trofbszgb elv Jvguuenfifz ozvwk zsk Uslxnxz rd LVO-Mwdacfawiitobuqrq, hd jxsjgeh Qdzwdnsipzwfz hg swxvmhj Vczwo ekbxfiuxhr jxykld.
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Zu den ausgestellten Produkten gehören das EB-Lithographie-System F7000, das Nano-Pattern direkt auf Wafer schreiben kann, die MVM-SEM-Systeme E3310 und E3640 für Messungen auf Wafer und Masken sowie das DR-SEM-System (Defekt Review) E5610 zur Inspektion von Fotomasken der nächsten Generation.
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