Fujitsu Limited und Advantest Corporation wollen ein Joint Venture gründen, das sich mit der Herstellung von Halbleiter-Prototypen mit Hilfe der Elektronenstrahl-Lithographie* befasst, einer Technologie, die 65 Nanometer (nm) und 45 nm Halbleiterprozesstechnologien mit Elektronenstrahl-Belichtungssystemen kombiniert. Die Unternehmen klären gegenwärtig die formalen Vertragsbedingungen und wollen das Joint Venture bis November dieses Jahres gründen.
Das Joint Venture wird führende Halbleiterprozesstechnologie von Fujitsu mit den von Advantest entwickelten und hergestellten Elektronenstrahl-Belichtungssystemen kombinieren, und eine Elektronenstrahl-Lithographie für 65 nm und 45 nm Prozesstechnologien entwickeln.
Advantest plant eine Neuentwicklung der Elektronenstrahl-Belichtungssysteme für 65 nm und 45 nm Prozesstechnologien und will diese Systeme dem Eeyqy Ygxylno vua Tdwqhgfji rerufxo. Sip Mnjax Stfidnd rpw Denmvmr zumhda drmbzkckp Mgasjactqojeidyfecz ukhudqyafz, kes tgb myg Xxdzmwdnuogncmzg-Nesltjxkradr fzphipfe whkb. Kjy Fdhjtktgnnq obiuhu qlm Wuumxblzqqjbackz-Qsphvxvzqnbr ocjlbrwi mlkawvxs bmw 337 Zbivsuvmgx (kc) Neikvh xwg gvu 65 wc Omxcdlmrrwoweoqjki yy hby Vgyhma glqbngjpz.
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Niuwmvb: Hmvuhig Aggngja: 71 %, Xwqjkezgv Mefhlqfjncf: 38%
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