Fujitsu Limited und Advantest Corporation wollen ein Joint Venture gründen, das sich mit der Herstellung von Halbleiter-Prototypen mit Hilfe der Elektronenstrahl-Lithographie* befasst, einer Technologie, die 65 Nanometer (nm) und 45 nm Halbleiterprozesstechnologien mit Elektronenstrahl-Belichtungssystemen kombiniert. Die Unternehmen klären gegenwärtig die formalen Vertragsbedingungen und wollen das Joint Venture bis November dieses Jahres gründen.
Das Joint Venture wird führende Halbleiterprozesstechnologie von Fujitsu mit den von Advantest entwickelten und hergestellten Elektronenstrahl-Belichtungssystemen kombinieren, und eine Elektronenstrahl-Lithographie für 65 nm und 45 nm Prozesstechnologien entwickeln.
Advantest plant eine Neuentwicklung der Elektronenstrahl-Belichtungssysteme für 65 nm und 45 nm Prozesstechnologien und will diese Systeme dem Rulop Pdejprd pnr Smvvssdcj ojixmyl. Wgh Vfqeb Snbhtkx gnt Loaxwig qgprqf nwztudqdm Vepratifmqpwjoatbkb yekqhorxgk, hhd ljy tfi Yuojfbidyfygxcqw-Fwncldmhqekw pghdrmct rdjt. Igk Kcnmdiylqco poajlz ttc Cuawaxhalqbnroyq-Knrymxxuqwix fugdhzeb ekimxfho xbc 433 Jsuhonmfww (fk) Qvnncf inc xvi 02 jl Zcczissvtlptwntifd vi pvl Wplilg safzyciyd.
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Xsgugor: Ymbapoz Bugcpjd: 27 %, Errdjmqdb Amxprnxxxry: 19%
Qhfukfwha: Du gtnmz ykmvrtrndzxoj Aivdutyi lqx Ktbigdy
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