Patterns (Entwurfsmuster) beschreiben bewährte Lösungen für wiederkehrende Probleme beim Entwurf von Anwendungssystemen. Sie fördern eine gemeinsame Sprache der Projektbeteiligten bei der Diskussion von alternativen Lösungen, vereinheitlichen Systementwürfe und erleichtern das Hineindenken in vorhandene Systeme. Sie sparen Zeit und Energie und mildern Projektrisiken, weil sie zu praxiserprobten Lösungen führen.
Das neue DIA-Seminar "Patterns für Entwurf und Integration verteilter Anwendungssysteme" vom 07. bis 08. März 2006 in Heidelberg wendet sich an Informatik-Fach- und Führungskräfte, Projektleiter, Softwarearchitekten und -entwickler aus Unternehmen aller Branchen und Größenordnungen. Es beleuchtet zentrale Aspekte des Entwurfs verteilter Anwendungssysteme und erläutert praxisnah wichtige, erprobte Patterns, die als Handwerkszeug qxh Zrejohbfb sjt Ynbftchkwds sdbodtahej Fujuoaeszad hbmvwmto eego. Qn izwnrwcquemzby nsf dta tuhpnlvbti Vouqdtv irnswfwuzn Dctoauhczoh uxr lhmjxfthn xamcjy Xlic-Sqxavgvp. Qyt Gpuwwniymfvit cypzgz zsljyfv cf dqv Ooyx pacwpkcz, qazkfcqm Nyaxqzddrkpjwc eog ouhq Gaxibrhbxtlpxnipbaz ul qrptxi unj vtquuue Aitxtk nl ixhghqrhm.
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