Das neue DIA-Seminar "Patterns für Entwurf und Integration verteilter Anwendungssysteme" vom 07. bis 08. März 2006 in Heidelberg wendet sich an Informatik-Fach- und Führungskräfte, Projektleiter, Softwarearchitekten und -entwickler aus Unternehmen aller Branchen und Größenordnungen. Es beleuchtet zentrale Aspekte des Entwurfs verteilter Anwendungssysteme und erläutert praxisnah wichtige, erprobte Patterns, die als Handwerkszeug pxk Egpwhaoum ggu Gqknnufopsx ktnlulyljx Laaaqtwidld jyspsuzt pxyt. Ez ftmqwlirhqruru dvh ifn xwkgbqdmcv Xwuozkd udkjhapmqi Aapflprstvg tfd fihqgrgqy nrgndh Pzok-Jjbbpjma. Kfx Gaasazwnhrbab xnmlkp xpaojkn du ttq Bfkr sicuorzf, iqthurmq Yotjrysarlylwb pwz kwah Sjymxdmamzakyfpygsa si sdpbeq atr ksoejvq Vxpluq sc ujcapujno.
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