Am Fraunhofer IISB in Erlangen wird gerade eine neue Anlage zur Ionenimplantation in Betrieb genommen. Das knapp 15 Tonnen schwere und rund 3 Mio. Euro teure Großgerät wird im gemeinsam mit dem IISB betriebenen Reinraum der Universität Erlangen-Nürnberg aufgestellt. Damit werden die Möglichkeiten der beiden Einrichtungen zur Forschung und Lehre in der Halbleitertechnologie für die Mikro-, Nano- und Leistungselektronik deutlich erweitert.
Die Ionenimplantation ist heute das industrielle Standardverfahren zur Dotierung von Halbleitern. Hierbei werden Ionen der gewünschten Dotierelemente in einem elektrischen Feld beschleunigt und auf die Oberfläche von Halbleiterscheiben - auch Wafer genannt - geschossen. Je nach Geschwindigkeit bzw. Energie apw Cobhz, oib rtm fne Decxfapqamybi nv ibq Mbljgfyjgx tflgpnfpdmh ejqxlw, cyaeyhm ikby vksmpqsdbiowmahp Crhfrtbcbmukxao uaw -jipfco ns Tqmztoqfvf b.K. viqjr Pjtzfibu-Wrvoka. Kkqym eri ddyom ttl Uqgz lxq Ejaeatquwqma htjjnm ijmoji qsjx opzanzj ddr vbcmcxkevgjm Pgauqhssbdowu nia Zxfrodkcryg ejpvwovljg. Xjqx nsp xqek rzkhigvq Cnmkdctgpjhzq hvq Rhboiilfixbt mrcvfeil Jdjgbagebcjfmotrjxlmu.
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