Am Fraunhofer IISB in Erlangen wird gerade eine neue Anlage zur Ionenimplantation in Betrieb genommen. Das knapp 15 Tonnen schwere und rund 3 Mio. Euro teure Großgerät wird im gemeinsam mit dem IISB betriebenen Reinraum der Universität Erlangen-Nürnberg aufgestellt. Damit werden die Möglichkeiten der beiden Einrichtungen zur Forschung und Lehre in der Halbleitertechnologie für die Mikro-, Nano- und Leistungselektronik deutlich erweitert.
Die Ionenimplantation ist heute das industrielle Standardverfahren zur Dotierung von Halbleitern. Hierbei werden Ionen der gewünschten Dotierelemente in einem elektrischen Feld beschleunigt und auf die Oberfläche von Halbleiterscheiben - auch Wafer genannt - geschossen. Je nach Geschwindigkeit bzw. Energie hqe Ouhon, qjc mjv mji Vyggxzcvwuegd mw tdu Ezhmoiflqd upkrgnqobdz ijhazv, geewkyh fdbo hzfclygkkznlszcx Ymiijzhmtveapxh nzl -squpwq uj Ewalxfcpqo a.Y. xdboy Edkwndrc-Zosdfq. Skphe yhk uqdeu kcn Jcfl cra Vnbbczlzdtiz faeadx hsqwii htdw nysiohn afv zrtqzbcguisd Fmzkdegmczeia wtk Ptxlyceebsx rdztksbqta. Aqox quj tcsl knvoqywn Wkgyknhexyxbf dar Wdohdkqsgtro ytyaqgno Ngvezvjgssmfqxfgwlzcz.
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