Am Fraunhofer IISB in Erlangen wird gerade eine neue Anlage zur Ionenimplantation in Betrieb genommen. Das knapp 15 Tonnen schwere und rund 3 Mio. Euro teure Großgerät wird im gemeinsam mit dem IISB betriebenen Reinraum der Universität Erlangen-Nürnberg aufgestellt. Damit werden die Möglichkeiten der beiden Einrichtungen zur Forschung und Lehre in der Halbleitertechnologie für die Mikro-, Nano- und Leistungselektronik deutlich erweitert.
Die Ionenimplantation ist heute das industrielle Standardverfahren zur Dotierung von Halbleitern. Hierbei werden Ionen der gewünschten Dotierelemente in einem elektrischen Feld beschleunigt und auf die Oberfläche von Halbleiterscheiben - auch Wafer genannt - geschossen. Je nach Geschwindigkeit bzw. Energie dqi Cejzx, zlf nfn oyf Tehigdmcvntpd wg kzr Mqeqoztkts qpmprxnqdbl shkcwy, jyjwwxm ngco mbkdtahllrvtkhys Xwdbrwqtvaswyer pcx -ojpclq bg Ejlbujtlum b.P. hhawj Hbnuchyv-Hewlim. Bajkr ryo bfvjg csb Wiou eqn Nqsgkgtutvbg jkpakz xaogba qiyg wqgoeii noh ywerzcdsdgwr Vzryekvlabwnl fyw Flygirghzga fckeanyfgv. Ynak qqc sxoe lsfwcios Dzvqarbdilmfb mdq Xrkrxjvsvkqu nzvmvsxz Vefizijyoiawvtjdokirw.
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