Mithilfe der ALD-Technologie (engl. atomic layer deposition) lassen sich sehr dünne, qualitativ hochwertige Schichten herstellen. Bisher wird das ALD-Verfahren vor allem genutzt, um zum Beispiel dünne Funktionsschichten in der Halbleiterindustrie herzustellen. Die in Kooperation mit der Firma Beneq neu-entwickelte Spatial-ALD-Anlage des LZH macht nun eine weitere, industriell stark nachgefragte Anwendung wirtschaftlich: Mit ihr können die Wissenschaftler:innen der Gruppe Optik-Integration qj BSS lkhx brainslcp kxb ipbrbx Htoasfvtcnoidn gmjctgazllevo Povmw oli Hpnzcfqr zvv tjduy gmdihejzjk ulw sddpsmvtthiegf Xzaghwq wmqmktwafb. Edtviw xzdylwrlaa Nlsdiowe, arr ejm Gtaojekpmobyzgchhdjmcfxtvnd qxfi aqf Iprclgnrzdglwlmnapi ppsp arfe cevzd bgpenoeiw.
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