Die Vistec Electron Beam GmbH (ehemals Leica Microsystems Lithography GmbH) konnte in diesen Tagen eine Elektronenstrahl-Lithographieanlage SB350 OS an das Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF in Jena ausliefern.
Die SB350 OS ist seit 1978 bereits die fünfte Anlage des in Jena ansässigen Elektronenstrahlgeräteherstellers für den Forschungsstandort Beutenberg Campus. Der Auftrag mit einem Volumen von über zehn Millionen Euro bringt das über viele Jahre gewachsene Vertrauen zwischen Unternehmen und Institut zum Ausdruck. Die Vistec Electron Beam konnte das in sie gesetzte Vertrauen erneut bestätigen, denn trotz eines engen Zeitplans lieferte das Unternehmen termingerecht.
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