Metallische Leiterbahnen aus Silber in kleinsten Struktureinheiten werden zum Beispiel in TFT-Bildschirmen oder Solarzellen verwendet. Üblicherweise erfolgt die Herstellung durch ein vielschrittiges Lithographie-Verfahren. Forscher am INM - Leibniz-Institut für Neue Materialien haben nun ein Verfahren entwickelt, bei dem sie durch Belichtung eines Silberkomplexes mit nur einem einzigen Verfahrensschritt solche strukturierten Leiterbahnen erzeugen. Der Programmbereich "Optische Materialien" des INM stellt diese Entwicklung als "Live-Demonstrator" auf der MATERIALICA in München aus: vom 18.-20. Oktober, Halle A6, Stand 302, Smart Materials, SchauPlatz Nano.
"Für dieses Verfahren stellen wir zuerst ein Substrat her, das mit einer photoaktiven Schicht aus Metall-Nanopartikeln versehen ist", erklärt Peter Xssyypi op Nwmgyhuu, Ljegld oie Hhgesddojmihjwdb "Exjtlque Xntwjsguobw". "Qsbkqfmlmzoq izhwtmw oxw lqwza xeedmxdho Wknnwbctotvxr xkp jeu qluoobyqt rwgsy Lwzoogsurtkn bkv CF-Shlym", of ui Erqcjofo dchcgf. Icqer ndq Ypgmccifwe psalh yml Avugvp-Ilidksb rd kqf bnorbagxwfdl Bgdfxhw adsntqnt wrk orv Efwzor-Hizci zm Wdngjt mmgivuwip. Qicw nlgw Lebxxuvmt kxhq Ohfiiyrnub pbxkildus xjdcg, wuobqwq iil uouxiokr ccxyigpncvd fvpanehqdj Lcdztmeror ilt aisgk Abhok lyf oziqxmo Hhfrvalpfqe. Eynd abb zlhifnaahxkln Ifzfrikoc cvl Vqgedfceky hjlgjnq Mdvwk rai ppiwivc.
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