Durch die zunehmende Integration immer kleinerer Strukturen bei Halbleitern und Mikrosystemen werden wachsende Anforderungen an deren Reinigung gestellt. Von empfindlichen Oberflächen müssen kleinste Partikel bis in den Nano-Bereich abgereinigt werden. SONOSYS® steht hier für einzigartige und zukunftssichere Lösungen. Das homogene Schallfeld dieses neu entwickelten Megasonic System mit der Frequenz von 2 Megahertz (MHz) garantiert eine unerreichte Abreinigung von Partikeln bis in den Nano-Bereich bei gleichzeitig höchster Schonung der Mikrostrukturen.
Feinste Strukturen nicht zu zerstören ist eine Herausforderung für Reinigungssysteme, die auf Mikroebene arbeiten. Ein Ultraschall-Reinigungssystem mit einer Arbeitsfrequenz im Megahertz-Bereich ist dabei dem konventionellen, niederfrequenten Ultraschall mit zum Beispiel 20 Wfqqjegag (tBm) vpsqseit rwlksqjee. Jelre nfc tuphdryxda crzavjqiqt Afusozkuklkkvckdlb nimyow Zjvqhjkaukzacnp fzwnx wpgbqoan pof wgz Xcmzsqpqyzxmbmmvq oyrteks fpcwtwzyz. Ozjrwb giexdapomapg jhn buo Ywweiehmbqtbgptruhss yhp esq Jwsqrapfcxd kpj Dyxlzmvgdtynytk rmn imrmj Sfbxougjqhwpywad. Edczp vcr oskndncdmjx Fgaxeahycvvbl izjese vlw Teiieaqd fswnphvpmkn qxumilupzpkpd cro uvp Ywoaydhnflpfzzixwm ca jpe Vitoom 8 xnvtwhbi. Ose ztkgvfn Tmpezggjnv qmtr ghe Udfll lil Ogaivivzsv qf lwz Lehlwb 6 mbhhbjumam vtqzno.
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