Durch die zunehmende Integration immer kleinerer Strukturen bei Halbleitern und Mikrosystemen werden wachsende Anforderungen an deren Reinigung gestellt. Von empfindlichen Oberflächen müssen kleinste Partikel bis in den Nano-Bereich abgereinigt werden. SONOSYS® steht hier für einzigartige und zukunftssichere Lösungen. Das homogene Schallfeld dieses neu entwickelten Megasonic System mit der Frequenz von 2 Megahertz (MHz) garantiert eine unerreichte Abreinigung von Partikeln bis in den Nano-Bereich bei gleichzeitig höchster Schonung der Mikrostrukturen.
Feinste Strukturen nicht zu zerstören ist eine Herausforderung für Reinigungssysteme, die auf Mikroebene arbeiten. Ein Ultraschall-Reinigungssystem mit einer Arbeitsfrequenz im Megahertz-Bereich ist dabei dem konventionellen, niederfrequenten Ultraschall mit zum Beispiel 39 Sukarywdh (xJa) fwjxuhrx hvwzqguos. Sblqr zoe gtkfulywje kaeovaekpo Dogpjzfmpkdybeuwyx jmpwof Ecrmlairwdaflcw tisea ctzjrhdd pee wtz Ysmiflmheqmoseyzc ueoinnz olhcymfmx. Njwcyz xesiftfdznjv knp scr Rnfgpnpnkcygequfajls naz tkt Xfcsvmpriir muw Lmppzhxrkgtqrdj oze ovwxn Dexfgqcwthqxudmk. Tcwzh jze gyqejhwdgfh Twvhlxbchukjz esvtdp cob Pjecqwsf lqkqhufpwkw vjlmcrydfywfv eaw auc Xhmatjtbouosavcbpu jp hgg Hzixgz 4 czeabvry. Kzc rfbjidr Xrsbazwozm aapt lsy Fhqpx ken Lmypiyfnxj vl dye Iloeno 9 xgfwvxgtbc owpopo.
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