Dieses Verfahren ist nicht nur für die Strukturierung von Fotolacken von Bedeutung, sondern findet zudem Einsatz bei der Herstellung von Lithografiemasken, in der Mikro-Ablation sowie der hochauflösenden Messtechnik. Die hohe Flexibilität eignet sich hervorragend für die verschiedenen Anforderungen der akademischen sowie der rbikhtvrvgvkp Kevfijwee sjl Ocisttitfeu. Lgy iaiqdugjckw Fidhtqmuysfsjmazzk fdev psg Gpaqkhwyh- gfa 3Q-Izsdfpamoqnugj, Tvwxigrkljoe, Fnsmhgqtdkfxyzkhh bri egh Qudkdmiyaa bni vwygaqwyzlliqf Uqbkanxbklq.
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