Vistec Electron Beam GmbH (ehemals Leica Microsystems Lithography GmbH) stellt auf der Semicon Europa 2006 die neue SB3050 vor: ein höchst leistungsfähiges Formstrahlsystem, das schon heute im Bereich R&D und Protyping die Strukturierung im 32nm-Technologie-Niveau ermöglicht.
Diese Technologie wird ab 2013 in der Produktion eingeführt werden. „Wir bieten unseren Kunden schon heute die Anlagen für die übernächste Technologie-Generation an. Damit ermöglichen wir die Entwicklung neuer Technologien und Schaltkreise und das Schritthalten mit den Vorgaben der ITRS-Roadmap.“, erklärt Vistec Electron Beam Geschäftsführer Dr. Sebastian Tölg. Ein überzeugendes Konzept: Eine Anlage ist bereits bestellt – schon vor der offiziellen Premiere der SB3050 cdb mlo qewsdlqsnvvl Xiuyo.
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