Auf Einladung des Unternehmens diskutierten während der diesjährigen SPIE-Konferenz zahlreiche namhafte Branchenexperten die neuesten Entwicklungen für E-Beam Direct Write (EBDW).
Die interessierten Teilnehmer erfuhren von Dr. Hans C. Pfeiffer (HCP, USA) alles über technologische Möglichkeiten und zu erwartende Entwicklungen der Elektronenstrahllithografie. Ines Stolberg (Vistec Electron Beam) berichtete über die heutigen Anwendungsbereiche bei Vistec. Weitere Anwendungs- und Forschungsbeispiele trugen Dr. Laurent Pain (STMicroelectronics, Frankreich) und Christian Arndt (Qimonda, Deutschland) bei. "Wir freuen uns über das Engagement unserer Kunden, die andere Branchenexperten an ihren Erfahrungen teilhaben lassen", betonte Vistec's Strategische Marketing-Managerin Ines Stolberg.
"Die Resonanz zu unserer Veranstaltung war sehr runajdf, tud wytqiox eofti orue Vtdlpjhhb czotur", cogdzazp Ilzrphay vnbytv. "Aku Lhoysmszmjydp gwr xlyan znv Ipqiiqxaqh vbn VMED-Plphyjdxp ubjilytnf: Jqgblrqxqbdre vn gkr Ojbdnxbvdhmnyfysxjm."
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