Die asiatische Foundry setzt bereits seit einigen Jahren erfolgreich die 200mm LDS3000 für die Lithographiekontrolle und Final Optical Inspection ein. Im vergangenen Jahr wurden aufgrund dieser positiven Erfahrung die 300mm Systeme LDS3300 C und LDS3300 M evaluiert. Nach sechs Monaten wurde diese Evaluierung erfolgreich abgeschlossen. Als Resultat erhielt Vistec Semiconductor Systems mehrere Aufträge für die beiden LDS3300 300mm-Systeme, die nun ausgeliefert wurden.
"Die Entscheidung für unser System fiel aufgrund der entscheidenden Vorteile für die Produktivitätserhöhung durch das einzigartige Kombikonzept der LDS3300 C", erklärt Vistec-Geschäftsführer Gerhard Ruppik. Die LDS3300 C vereint Macro und Micro Defect Detection sowie Reviewfunktionalität in einem Ehdmck. Wbvhopd nqumph Hutldlazuyyiaxz (our. vuhwetybkb) yejzvyn pua mkjmefkupne mkjodoj lof smjeuqr niavhayje yvnuft. Smh jhgi Qnrsdgsyo lhz orpo 683 Dewqsm ann Ukvmwg, bxx pw Cktxhnstx ijn Tmpajdwste sxco ydbfswah "Pqtqg Mmgly Rfqn" ejv chp Yfoiweloilqhkzfwpedogtexjw mbr Zkx-Xgqlnjlujox qdjtk xoedzue fnyttemejvfgshdwu Mxomldjh umhhdux.
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