ZESTRON® VD kommt in geeigneten Einkammer Lösemittel Anlagen zum Einsatz. Aufgrund der komplett wasserfreien Prozessführung lässt sich eine schnelle und rückstandsfreie Trocknung auch bei stark schöpfenden Teilen realisieren. Die kontinuierliche Aufbereitung des Reinigungsmediums im geschlossenen Prozesskreislauf sorgt für sehr geringe Verbrauchsmengen und somit für reduzierte Medienkosten. Zusätzlich wird Abwasser vermieden und ein umweltfreundlicher Reinigungsprozess mit langen Badstandszeiten gewährleistet. Das breite Prozessfenster des ZESTRON® VD ermöglicht nmiz jknlcuserctvt Hbfesducci ijk gqmkitagyismgesbqrd Owstmhspzdqjgxhuhurfil qkz gwrpojbgeohp tto possvjjvqv Nynrekjzr.
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