Vier Webinare an einem Tag versprechen viermal interessante Themen rund um die Simulation. Wolfgang Müller, Leiter Competence Center CAE bei DPS Software: „Virtuelle Simulationen in der Produktentwicklung sind heute Standard und sehr vielseitig einsetzbar. Nutzen Sie unseren 4-teiligen Simulation Marathon, um schnellstmöglich mit Ihrem vordringlichsten Thema an Ihr Ziel zu kommen.“ Interessierte können sich anmelden unter: https://www.dps-software.de/simulation-webinare
Simulation im Konstruktionsprozess
Der Start des DPS Simulation Marathons erfolgt um 10 Uhr mit der konstruktionsbegleitenden Simulation. Wer mit SOLIDWORKS CAD arbeitet, schon immer mit einem Simulationsprogramm liebäugelte, erfährt hier, wie sich Simulation in das vorhandene Programm integrieren lässt, Zeit und Kosten im Produktentwicklungsprozess damit eingespart werden.
Simulation auf der 3DExperience Plattform
Warmgelaufen? Die 3DExperience Plattform rückt um 11 Uhr in den Fokus. Im Duo mit Virtual Twin Experience ermöglicht diese die lückenlose Verbindung von virtueller und realer Welt. Produkte in jedem Entwicklungsstadium testen, erst dann produzieren, wenn alles passt – das steht für Nachhaltigkeit und Zeitersparnis.
High-End Simulation
Eine Mittagspause darf bei so einem Marathon natürlich nicht fehlen. Spannend wird es danach ab 13.30 Uhr, wenn sich alles um die High-End Simulation mit Abaqus dreht. Die hochleistungsfähige Lösung für die Multiphysics FE Analyse und CST, eine elektromagnetische 3D Simulationslösung, bietet besondere Vorteile im Bereich der elektromechanischen Verträglichkeit und bei Interferenzen.
Partikelsimulation
Der Zieleinlauf wird um 14.30 Uhr mit iGraf eingeläutet. iGraf, das ist eine vollständig in SOLIDWORKS integrierte Lösung für die Simulation von Pulver- und Mehrphasenströmungen komplizierter Modelle, die in Bewegung sind – rotieren, vibrieren oder sich translatorisch bewegen.
Und nach dem Marathon? Nach dem Simulation Marathon ist vor der eigenen Simulation, denn sportliche Aktionen jeder Art sind einfach gut.