Der von der Firma Cymer, Inc. gesponserte Preis wird seit 14 Jahren auf der SPIE für den besten Konferenz-Beitrag von Doktorandinnen und Doktoranden im Bereich der optischen Lithographie vergeben. Die SPIE Advanced Lithography ist die weltweit wichtigste Konferenz im Bereich Lithographie, die u.a. für Strukturierungsvorgänge bei der Herstellung mikroelektronischer Bauelemente und Schaltungen eine wichtige Rolle spielt.
Mit ihren herausragenden Forschungsergebnissen im Bereich der Modellierung lithographischer Masken für die Herstellung von Halbleiterchips ist es Frau Agudelo erstmals gelungen, diese Auszeichnung nach Europa zu holen. In der Vergangenheit ging der Preis meist an führende Forschungseinrichtungen aus den USA.
Frau Agudelo sieht die Bedeutung ihrer Arbeiten auf dem Gebiet der Lithographiesimulation so: „Neuronale Netzwerke werden heute in vielen Forschungsbereichen zur Lösung der unterschiedlichsten Probleme eingesetzt. Das Ziel meiner Arbeit ist die Formulierung möglichst kompakter Simulationsmodelle für die Entwicklung von lithographischen Masken, wie sie bei der Produktion von Mikrochips zur Anwendung kommen. Die Modelle sind ein wichtiger Beitrag für die Verbesserung der Produktionsprozesse in der Halbleiterindustrie und ich freue mich natürlich sehr über diese Anerkennung.“