Contact
QR code for the current URL

Story Box-ID: 53171

IBM Deutschland GmbH Schönaicher Str. 220 71032 Böblingen, Germany http://www.de.ibm.com
Contact Pressekontakt +49 711 7850

IBM Forschung zeigt Weg zur verlängerten Nutzung aktueller Chipherstellungsverfahren

(PresseBox) (San Jose/Kalifornien, )
IBM Forscher haben eine neue Methode zur verlängerten künftigen Nutzung bisheriger Chipherstellungsverfahren entdeckt, mit der sich kleinere Chip-Schaltkreise herstellen lassen. Damit könnten möglicherweise bisher teure und noch wenig zuverlässige Verfahren der Halbleiterindustrie wie Röntgenlithographie als künftige Alternativen noch zurückgestellt werden.

IBM Wissenschaftlern gelang es mit Hilfe der tief-ultravioletten optischen Lithographie (Deep-Ultraviolet, DUV, 193-Nanometer) , das bisher kleinste, qualitativ hochwertige Leitungsmuster auf einem Chip zu schaffen. Die Abstände zwischen den einzelnen Leitungen betragen dabei lediglich 29.9 Nanometer, ein Wert, der unter einem Drittel des derzeitigen Industriestandards von 90 Nanometer liegt und unterhalb der 32-Nanometer-Grenze liegt, die bisher nach Meinung der Industrie als die Grenze für Verfahren optischer Lithographie galten. Als Werkzeug für ihre Forschung hat die IBM ein Interferenz-Immersions-Lithographie-Test-System namens NEMO entwickelt. Mit NEMO lassen sich Interferenz-Muster schaffen, bei denen die Abstände kleiner sind als bei den aktuellen Chipherstellungsverfahren.

Das NEMO-Instrument nützt zwei Laserstrahen, um ein Hell-Dunkel-Interferenzmuster zu schaffen, in dem die Linienabstände geringer sind als bei heutigen Chipherstellungsgeräten. NEMO ist daher ideal für die Erforschung und den Test verschiedener hochbrechender Flüssigkeiten, die für künftige DUV-Lithographie-Systeme in Frage kommen. Die optische Auflösung in der Immersionslithographie ist limitiert durch den niedrigsten Brechungsindex der verwendeten Komponenten - Linsen, Flüssigkeiten und fotoresistente Materialien. Je höher der Brechungsindex, desto kleinere Strukturen lassen sich dabei darstellen.

Erste technische Details des entwickelten Verfahrens wurden auf der SPIE Microlithography 2006 Konferenz in San Jose, Kalifornien, vorgestellt.
The publisher indicated in each case (see company info by clicking on image/title or company info in the right-hand column) is solely responsible for the stories above, the event or job offer shown and for the image and audio material displayed. As a rule, the publisher is also the author of the texts and the attached image, audio and information material. The use of information published here is generally free of charge for personal information and editorial processing. Please clarify any copyright issues with the stated publisher before further use. In case of publication, please send a specimen copy to service@pressebox.de.
Important note:

Systematic data storage as well as the use of even parts of this database are only permitted with the written consent of unn | UNITED NEWS NETWORK GmbH.

unn | UNITED NEWS NETWORK GmbH 2002–2024, All rights reserved

The publisher indicated in each case (see company info by clicking on image/title or company info in the right-hand column) is solely responsible for the stories above, the event or job offer shown and for the image and audio material displayed. As a rule, the publisher is also the author of the texts and the attached image, audio and information material. The use of information published here is generally free of charge for personal information and editorial processing. Please clarify any copyright issues with the stated publisher before further use. In case of publication, please send a specimen copy to service@pressebox.de.