Gemeinsame Presseinformation von Infineon Technologies und Clariant AZ Electronic Materials
Infineon Technologies und Clariant AZ Electronic Materials entwickeln gemeinsam Fotolack-Materialien für die 157-nm-Lithographietechnik. Zielsetzung ist die schnelle Qualifizierung dieser Technologie für die Massenfertigung.
Die im Rahmen dieses Projektes entwickelten Fotolack-Materialien werden es Infineon erlauben, die 157-nm-Technologie für die Produktion von DRAM (Dynamic Random Access Memory)-Speicherprodukten mit Strukturen von nur noch 55 nm zu qualifizieren.
Von der ITRS (International Technology Roadmap for Semiconductors), in der die erforderlichen Technologien und Materialien für die Herstellung künftiger Chip-Generationen beschrieben wird, wird die Massenfertigung von Chips mit 55-nm-Strukturen ab dem Jahr 2007 erwartet. Die 157-nm-Technologie wird als eine der bevorzugten Lithographietechniken für die Fertigung dieser hochminiaturisierten Chips angesehen. Das Lithographieverfahren arbeitet mit Fluor-Lasern, die im Vakuum ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 157 nm abstrahlen.
Um die rechtzeitige Bereitstellung der neuen Fotolack-Materialien zu gewährleisten, nutzen die beiden Firmen ihre gemeinsamen Forschungs- und Entwicklungseinrichtungen auf dem Gebiet der Chemie und Infineons modernste Lithographietechnik in Dresden. Infineon wird eines der ersten Belichtungsgeräte für die 157-nm-Pilotfertigung in Betrieb nehmen. Wilhelm Beinvogel, Leiter der Technologie-Entwicklung für Speicherprodukte bei Infineon, betonte: „Der frühzeitige Zugriff auf solche Tools ist ein integraler Bestandteil für die schnelle Material- und Prozess-Entwicklung.“
„ Durch die Forschungs- und Entwicklungskapazitäten sowie fortschrittliche Prozesstechnologien, die dieses Projekt vereinigt, sind wir sehr zuversichtlich, dass unsere Firmen ganz wesentlich zur Bereitstellung der 157-nm-Fotolacke beitragen und damit für die zeitgerechte Einführung der 55-nm-Fertigung sorgen werden“, sagte Dr. Ralph Dammel, technischer Leiter für die 193- und 157-nm-Produkte bei Clariant.
Fotolacke sind lichtempfindliche Materialien, die zur Abbildung der winzigen Strukturen auf den einzelnen Schichten der Integrierten Schaltungen verwendet werden.
Die Lithographietechnik hat sich in den letzten Jahrzehnten enorm weiterentwickelt. Für die Chip-Massenfertigung wird derzeit die 193-nm-Lithographietechnik eingeführt. Infineon setzt diese Technik für Strukturgrößen unter 130 nm ein. Es wird allgemein davon ausgegangen, dass Verfahren mit Wellenlängen von 157 nm die letzte optische Technologie darstellen. Man geht ferner davon aus, dass bei der weiteren Miniaturisierung nichtoptische NGL (Next Generation Lithography)-Methoden verwendet werden müssen. Damit bildet die 157-nm-Technologie eine Art Brückenfunktion zwischen der 193-nm-Lithographie und künftigen NGL-Verfahren.
Über Clariant
Der Bereich AZ Electronic Materials von Clariant ist ein weltweit führender Anbieter von elektronischen Materialien für Halbleiter, Schreib-/Leseköpfe und Flachbildschirme. Clariant AZ Electronic Materials stellt komplette Kundenlösungen aus dem Bereich Fotolacke, Anti-Reflexbeschichtungen, Entwicklern, unterstützenden Chemikalien, dielektrische Materialien und Polyimide zur Verfügung. Clariant ist ein weltweit führender Produzent von Spezial-Chemikalien mit rund 29.000 Mitarbeitern und einem Jahresumsatz von etwa 10 Milliarden Schweizer Franken. Die Gruppe mit Sitz in Muttenz, Schweiz, ist weltweit mit mehr als 100 Unternehmen in fünf Kontinenten tätig. Die Produkte und Dienstleistungen der fünf Bereiche Textil, Leder- und Papier-Chemie, Pigmente und Additive, Funktionelle Chemie und Lifescience und elektronische Chemie basieren auf innovativen Spezial-Chemikalien. Diese spielen eine entscheidende Rolle in den Fertigungsprozessen der Kunden und ergänzen deren Produkte.
Infineon Technologies und Clariant AZ Electronic Materials entwickeln gemeinsam Fotolack-Materialien für die 157-nm-Lithographietechnik. Zielsetzung ist die schnelle Qualifizierung dieser Technologie für die Massenfertigung.
Die im Rahmen dieses Projektes entwickelten Fotolack-Materialien werden es Infineon erlauben, die 157-nm-Technologie für die Produktion von DRAM (Dynamic Random Access Memory)-Speicherprodukten mit Strukturen von nur noch 55 nm zu qualifizieren.
Von der ITRS (International Technology Roadmap for Semiconductors), in der die erforderlichen Technologien und Materialien für die Herstellung künftiger Chip-Generationen beschrieben wird, wird die Massenfertigung von Chips mit 55-nm-Strukturen ab dem Jahr 2007 erwartet. Die 157-nm-Technologie wird als eine der bevorzugten Lithographietechniken für die Fertigung dieser hochminiaturisierten Chips angesehen. Das Lithographieverfahren arbeitet mit Fluor-Lasern, die im Vakuum ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 157 nm abstrahlen.
Um die rechtzeitige Bereitstellung der neuen Fotolack-Materialien zu gewährleisten, nutzen die beiden Firmen ihre gemeinsamen Forschungs- und Entwicklungseinrichtungen auf dem Gebiet der Chemie und Infineons modernste Lithographietechnik in Dresden. Infineon wird eines der ersten Belichtungsgeräte für die 157-nm-Pilotfertigung in Betrieb nehmen. Wilhelm Beinvogel, Leiter der Technologie-Entwicklung für Speicherprodukte bei Infineon, betonte: „Der frühzeitige Zugriff auf solche Tools ist ein integraler Bestandteil für die schnelle Material- und Prozess-Entwicklung.“
„ Durch die Forschungs- und Entwicklungskapazitäten sowie fortschrittliche Prozesstechnologien, die dieses Projekt vereinigt, sind wir sehr zuversichtlich, dass unsere Firmen ganz wesentlich zur Bereitstellung der 157-nm-Fotolacke beitragen und damit für die zeitgerechte Einführung der 55-nm-Fertigung sorgen werden“, sagte Dr. Ralph Dammel, technischer Leiter für die 193- und 157-nm-Produkte bei Clariant.
Fotolacke sind lichtempfindliche Materialien, die zur Abbildung der winzigen Strukturen auf den einzelnen Schichten der Integrierten Schaltungen verwendet werden.
Die Lithographietechnik hat sich in den letzten Jahrzehnten enorm weiterentwickelt. Für die Chip-Massenfertigung wird derzeit die 193-nm-Lithographietechnik eingeführt. Infineon setzt diese Technik für Strukturgrößen unter 130 nm ein. Es wird allgemein davon ausgegangen, dass Verfahren mit Wellenlängen von 157 nm die letzte optische Technologie darstellen. Man geht ferner davon aus, dass bei der weiteren Miniaturisierung nichtoptische NGL (Next Generation Lithography)-Methoden verwendet werden müssen. Damit bildet die 157-nm-Technologie eine Art Brückenfunktion zwischen der 193-nm-Lithographie und künftigen NGL-Verfahren.
Über Clariant
Der Bereich AZ Electronic Materials von Clariant ist ein weltweit führender Anbieter von elektronischen Materialien für Halbleiter, Schreib-/Leseköpfe und Flachbildschirme. Clariant AZ Electronic Materials stellt komplette Kundenlösungen aus dem Bereich Fotolacke, Anti-Reflexbeschichtungen, Entwicklern, unterstützenden Chemikalien, dielektrische Materialien und Polyimide zur Verfügung. Clariant ist ein weltweit führender Produzent von Spezial-Chemikalien mit rund 29.000 Mitarbeitern und einem Jahresumsatz von etwa 10 Milliarden Schweizer Franken. Die Gruppe mit Sitz in Muttenz, Schweiz, ist weltweit mit mehr als 100 Unternehmen in fünf Kontinenten tätig. Die Produkte und Dienstleistungen der fünf Bereiche Textil, Leder- und Papier-Chemie, Pigmente und Additive, Funktionelle Chemie und Lifescience und elektronische Chemie basieren auf innovativen Spezial-Chemikalien. Diese spielen eine entscheidende Rolle in den Fertigungsprozessen der Kunden und ergänzen deren Produkte.
