Saphir-Fasern besitzen exzellente Matrialeigenschaften und eignen sich optimal für den Einsatz bei 2,94 μm. Aufgrund ihres hohen Schmelzpunktes und der chemischen Resistenz lassen sich die Fasern bei extremen Umweltbedingungen einsetzen. Gerade innerhalb von Prozessanlagen, in denen chemische Reaktionen überwacht werden müssen, kommen die Fasern häufig zum Einsatz.
Im Vergleich zur Politur von Glasfasern ist die Bearbeitung von Saphirfasern deutlich aufwendiger, was an dem kristallinen Aufbau des Materials liegt. Um optimal polierte Oberflächen zu erhalten, dürfen die Kristalle nicht ausbrechen, was durch das neue Verfahren garantiert wird.
Weitere Informationen http://www.lasercomponents.com/...
Messen
BiOS 2013, 02.-03.02.2013, Moscone Center, San Francisco, USA, Stand 8517
Photonics West 2013, 05.-07.02.2013, Moscone Center, San Francisco, USA, Stand 517
LASER. World of Photonics, 13.-16.05.2013, Neue Messe München