Im Rahmen der Kooperation von SIEB & MEYER und dem norwegischen Spezialisten für Direktbelichtung VISITECH ist ein optimal abgestimmtes Funktionspaket für die Direktbelichtung von Leiterplatten entstanden. Die Systemlösung besteht aus dem LUXBEAM Lithography System LLS mit UV-Belichtungsköpfen von VISITECH sowie dem Motion Controller MC2 und den Servoverstärkern SD2S von SIEB & MEYER. Anwender profitieren unter anderem von einer hohen Maschinenperformance.
Das LUXBEAM Lithography System LLS mit UV-Belichtungsköpfen wurde auf Basis der Digital Light Processing (DLP™)-Technologie, hochpräziser Optiken, leistungsfähiger UV-Lichtquellen und der entsprechenden Bildverarbeitungssoftware von VISITECH realisiert. Das Belichtungssystem kommuniziert über Ethernet mit dem Motion Controller MC2. Gleichzeitig stellt das System von SIEB & MEYER ein auf den Nanometer genaues Positionssignal zur Verfügung, das für die Synchronisation des Belichtungsprozesses zur relativen Bewegung der Achsen benötigt wird. Nichtlinearitäten oder mechanische Toleranzen der realen Maschine lassen sich mit Hilfe des Motion Controllers MC2 und der Servoverstärker SD2S kompensieren. „Das Resultat ist eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, die eine optimale Maschinenperformance garantiert“, so Oyvind Tafjord, Marketing Manager bei VISITECH. „Zudem profitieren die Anwender von einer Reduzierung der Entwicklungszeit und der Time-to-Market bei der Einführung der Maschine – schließlich haben wir Ihnen bezüglich des Kernsystems schon die Arbeit abgenommen.“
SIEB & MEYER stellt mit seinem Motion Controller MC2 und den dazugehörigen Servoverstärkern SD2S ein leistungsstarkes System für hochgenaue und dynamische Bewegungsabläufe zur Verfügung. Einsatzbereiche sind Maschinen zum Ultraschall- bzw. optischen Scannen, Drucken, Röntgen oder Direktbelichten von Leiterplatten. „Bei all diesen Applikationen ist die Qualität des Bearbeitungsprozesses von der präzisen Synchronisation des Bearbeitungskopfes zu den Achsbewegungen abhängig“, erläutert Torsten Blankenburg, Vorstand Technik der SIEB & MEYER AG. „Die Kooperation mit VISITECH ermöglicht es uns, diesen Prozess soweit wie möglich zu optimieren.“
Das LUXBEAM Lithography System LLS mit UV-Belichtungsköpfen wurde auf Basis der Digital Light Processing (DLP™)-Technologie, hochpräziser Optiken, leistungsfähiger UV-Lichtquellen und der entsprechenden Bildverarbeitungssoftware von VISITECH realisiert. Das Belichtungssystem kommuniziert über Ethernet mit dem Motion Controller MC2. Gleichzeitig stellt das System von SIEB & MEYER ein auf den Nanometer genaues Positionssignal zur Verfügung, das für die Synchronisation des Belichtungsprozesses zur relativen Bewegung der Achsen benötigt wird. Nichtlinearitäten oder mechanische Toleranzen der realen Maschine lassen sich mit Hilfe des Motion Controllers MC2 und der Servoverstärker SD2S kompensieren. „Das Resultat ist eine perfekt aufeinander abgestimmte Systemlösung, die eine optimale Maschinenperformance garantiert“, so Oyvind Tafjord, Marketing Manager bei VISITECH. „Zudem profitieren die Anwender von einer Reduzierung der Entwicklungszeit und der Time-to-Market bei der Einführung der Maschine – schließlich haben wir Ihnen bezüglich des Kernsystems schon die Arbeit abgenommen.“
SIEB & MEYER stellt mit seinem Motion Controller MC2 und den dazugehörigen Servoverstärkern SD2S ein leistungsstarkes System für hochgenaue und dynamische Bewegungsabläufe zur Verfügung. Einsatzbereiche sind Maschinen zum Ultraschall- bzw. optischen Scannen, Drucken, Röntgen oder Direktbelichten von Leiterplatten. „Bei all diesen Applikationen ist die Qualität des Bearbeitungsprozesses von der präzisen Synchronisation des Bearbeitungskopfes zu den Achsbewegungen abhängig“, erläutert Torsten Blankenburg, Vorstand Technik der SIEB & MEYER AG. „Die Kooperation mit VISITECH ermöglicht es uns, diesen Prozess soweit wie möglich zu optimieren.“
