Auf der Pittcon 2006 präsentiert SPECTRO das neue SPECTRO GENESIS SOP (Side-On-Plasma) mit radialer Plasma-Betrachtung. Das Optische Emissionsspektrometer mit induktiv gekoppelter Plasmaanregung (ICP OES) erfasst das Spektrum zwischen 175 und 777 nm, womit sich weit über 70 Elemente simultan bestimmen lassen.
Das SPECTRO GENESIS SOP setzt auf der Technologie des 2004 vorgestellten SPECTRO GENESIS EOP auf. Allerdings kommt beim neuen Gerät eine alternative Transferoptik zum Einsatz, bei dem das Plasma radial betrachtet wird. Olaf Schulz, Produktmanager für ICP bei SPECTRO, erklärt: "Bei einer radialen Betrachtung des Plasmas ist das Betrachtungsvolumen kleiner. Die Nachweisgrenzen sind deshalb nicht ganz so niedrig wie bei der EOP-Ausführung des Gerätes. Dafür ist die Matrixtoleranz größer, das Gerät arbeitet bei mittleren und hohen Gehalten -vom unteren ppm- bis in den Prozentbereich wesentlich präziser"
Damit richtet sich das SPECTRO GENESIS SOP vorrangig an Anwender aus der Industrie. Typische Applikationen für das neue Gerät liegen in der Untersuchung industrieller Abwässer, der Analyse von Abriebmetallen und Additiven in Ölen sowie in der Untersuchung von Böden und Schlämmen in der Agrarwirtschaft. Vielfältige Einsatzgebiete bietet auch die chemische Industrie, etwa bei der Untersuchung von Lösungen mit höheren Salzgehalten, organischer Proben, bei denen eine axiale Plasma-Betrachtung keine zufriedenstellenden Resultate liefern würde. Erste Methodenpakete für das SPECTRO GENESIS SOP sind zur Markteinführung erhältlich.
"Das SPECTRO GENESIS SOP ist eine sehr gute Alternative für Industrielabors, die bislang mit FAA-Technologie (Flame Atomic Absorption) analysieren", erläutert Marketingleiter Tom Milner. "Die Preise der Systeme sind vergleichbar. Aber das GENESIS SOP untersucht simultan das gesamte Spektrum und arbeitet deshalb wesentlich effizienter. Dies gilt umso mehr, als man das Gerät im Gegensatz zu einem FAA-Instrument ohne Risiko unbeaufsichtigt laufen lassen kann."
Hintergrund: SPECTRO GENESIS EOP
Das SPECTRO GENESIS EOP wurde auf der Pittcon 2005 vorgestellt. Das ICP OES nutzt das patentierte Optische Plasma Interface (OPI) für die axiale Betrachtung des Plasmas. Das SPECTRO GENESIS EOP analysiert zuverlässig selbst niedrigste Gehalte im ppb-Bereich. Damit ist das Gerät für den Einsatz in der Umweltanalytik prädestiniert, etwa bei der Prüfung zur Einhaltung von Grenzwerten bzw. bei der Analyse toxischer Elemente.
Das SPECTRO GENESIS SOP setzt auf der Technologie des 2004 vorgestellten SPECTRO GENESIS EOP auf. Allerdings kommt beim neuen Gerät eine alternative Transferoptik zum Einsatz, bei dem das Plasma radial betrachtet wird. Olaf Schulz, Produktmanager für ICP bei SPECTRO, erklärt: "Bei einer radialen Betrachtung des Plasmas ist das Betrachtungsvolumen kleiner. Die Nachweisgrenzen sind deshalb nicht ganz so niedrig wie bei der EOP-Ausführung des Gerätes. Dafür ist die Matrixtoleranz größer, das Gerät arbeitet bei mittleren und hohen Gehalten -vom unteren ppm- bis in den Prozentbereich wesentlich präziser"
Damit richtet sich das SPECTRO GENESIS SOP vorrangig an Anwender aus der Industrie. Typische Applikationen für das neue Gerät liegen in der Untersuchung industrieller Abwässer, der Analyse von Abriebmetallen und Additiven in Ölen sowie in der Untersuchung von Böden und Schlämmen in der Agrarwirtschaft. Vielfältige Einsatzgebiete bietet auch die chemische Industrie, etwa bei der Untersuchung von Lösungen mit höheren Salzgehalten, organischer Proben, bei denen eine axiale Plasma-Betrachtung keine zufriedenstellenden Resultate liefern würde. Erste Methodenpakete für das SPECTRO GENESIS SOP sind zur Markteinführung erhältlich.
"Das SPECTRO GENESIS SOP ist eine sehr gute Alternative für Industrielabors, die bislang mit FAA-Technologie (Flame Atomic Absorption) analysieren", erläutert Marketingleiter Tom Milner. "Die Preise der Systeme sind vergleichbar. Aber das GENESIS SOP untersucht simultan das gesamte Spektrum und arbeitet deshalb wesentlich effizienter. Dies gilt umso mehr, als man das Gerät im Gegensatz zu einem FAA-Instrument ohne Risiko unbeaufsichtigt laufen lassen kann."
Hintergrund: SPECTRO GENESIS EOP
Das SPECTRO GENESIS EOP wurde auf der Pittcon 2005 vorgestellt. Das ICP OES nutzt das patentierte Optische Plasma Interface (OPI) für die axiale Betrachtung des Plasmas. Das SPECTRO GENESIS EOP analysiert zuverlässig selbst niedrigste Gehalte im ppb-Bereich. Damit ist das Gerät für den Einsatz in der Umweltanalytik prädestiniert, etwa bei der Prüfung zur Einhaltung von Grenzwerten bzw. bei der Analyse toxischer Elemente.
